工程名稱：國家知識產(chǎn)權(quán)局專利與認證中心
工程地點：*
工程狀態(tài)：待建
竣工年份：2020
項目特色：涉外辦公樓
建筑功能：商業(yè)地產(chǎn)
建筑高度：100以內(nèi) m
建筑面積：3萬-5萬 m2
幕墻面積：1萬-3萬 m2
幕墻類型：單元式幕墻
支持體系：混凝土結(jié)構(gòu)
面板固定體系：明框幕墻
施工方式：單元式幕墻施工
裝配方式：壓塊法
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